聚焦離子束電鏡通過結(jié)合相應(yīng)的氣體沉積裝置，納米操縱儀，各種探測器及可控的樣品臺等附件成為一個集微區(qū)成像、加工、分析、操縱于一體的分析儀器。其應(yīng)用范圍也已經(jīng)從半導(dǎo)體行業(yè)拓展至材料科學(xué)、生命科學(xué)和地質(zhì)學(xué)等眾多領(lǐng)域。
 

　　聚焦離子束電鏡的工作原理：
 

　　典型的離子束顯微鏡包括液態(tài)金屬離子源及離子引出極、預(yù)聚焦極、聚焦極所用的高壓電源、電對中、消像散電子透鏡、掃描線圈、二次粒子檢測器、可移動的樣品基座、真空系統(tǒng)、抗振動和磁場的裝置、電路控制板和電腦等硬件設(shè)備。
 

　　外加電場于液態(tài)金屬離子源，可使液態(tài)鎵形成細(xì)小，再加上負(fù)電場牽引的鎵，而導(dǎo)出鎵離子束。在一般工作電壓下，電流密度約為10-8A/cm2，以電透鏡聚焦，經(jīng)過可變孔徑光闌，決定離子束的大小，再經(jīng)過二次聚焦以很小的束斑轟擊樣品表面，利用物理碰撞來達(dá)到切割的目的，離子束到達(dá)樣品表面的束斑直徑可達(dá)到7納米。
 

　　聚焦離子束電鏡的技術(shù)特點(diǎn)：
 

　　1、最高束流可以達(dá)到100nA,且加工性能優(yōu)異。可以實(shí)現(xiàn)快速切割和納米加工。
 

　　2、最高分辨率小于3nm，可以實(shí)現(xiàn)精細(xì)加工，并顯示優(yōu)異的FIB成像質(zhì)量。
 

　　3、電壓范圍在500V-30KV可調(diào)，可以實(shí)現(xiàn)精細(xì)拋光，降低樣品表面非晶層厚度。
 

　　4、離子源比較穩(wěn)定，使用壽命長。
 

　　5、與SEM鏡筒配合，可以實(shí)現(xiàn)FIB加工過程中可以利用SEM進(jìn)行實(shí)時觀察。